中微公司亮相工博会 自研CCP刻蚀设备PrimoUD-RIE®获CIIF大奖

中微公司自主研发的PrimoUD-RIE®电容耦合等离子体（CCP）刻蚀设备在第二十六届中国国际工业博览会上同时获得CIIF大奖和2026“国芯展”创新成果奖。该设备为基于完全自主知识产权开发的12英寸高端CCP刻蚀机，配备六个单反应台反应腔。截至2026年6月底，中微公司累计已有超过8800个反应台在国内外220余条生产线实现量产，并与华虹集团签署战略合作协议。